[发明专利]绝缘结构及绝缘方法有效

专利信息
申请号: 201410158429.3 申请日: 2014-04-18
公开(公告)号: CN104217913B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 佐藤正辉 申请(专利权)人: 斯伊恩股份有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种绝缘结构及绝缘方法,其有助于降低维护频度并提高装置运转率。本发明提供设置在用于从等离子体生成部引出离子束的多个电极间的绝缘结构(30)。绝缘结构(30)具备第1部分(52),连接于第1电极(20);及第2部分(54),连接于第2电极(22),且具备绝缘部件(32),用于将第1电极(20)支承于第2电极(22);第1罩体(70),为了保护第1部分(52)免受污染粒子(18)的影响而包围第1部分(52)的至少一部分;及第2罩体(72),为了保护第2部分(54)免受污染粒子(18)的影响而包围第2部分(54)的至少一部分。第1部分(52)及第2部分(54)中的至少一部分由可加工陶瓷或多孔陶瓷形成。
搜索关键词: 绝缘 结构 方法
【主权项】:
一种绝缘结构,其设置在用于从等离子体生成部引出离子束的多个电极之间,所述绝缘结构的特征在于,所述多个电极具备第1电极、及被施加与该第1电极不同的电位的第2电极,所述绝缘结构具备:绝缘部件,具备连接于所述第1电极的第1部分、及连接于所述第2电极的第2部分,且用于将所述第1电极支承于所述第2电极;第1保护部件,为了保护所述第1部分免受污染粒子的影响而包围所述第1部分的至少一部分;及第2保护部件,为了保护所述第2部分免受污染粒子的影响而包围所述第2部分的至少一部分,所述第1部分及所述第2部分中的至少一个由可加工陶瓷或多孔陶瓷形成,所述第1保护部件及所述第2保护部件中的至少一个,由石墨形成,并具备吸附污染粒子的多孔吸附面,所述多孔吸附面的粗糙系数在200以上。
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