[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及处理基板的制造方法，基板处理装置具有：基板旋转装置(10、20)，其使基板(W)保持并旋转；清洗装置(41)，其与通过基板旋转装置而以规定的旋转速度旋转的基板接触而对基板(W)进行清洗；移动装置(42)，其使清洗装置(41)在接触基板的清洗位置(P3)与离开基板的离开位置(P2)之间移动，以及控制部(64)。控制部将移动装置(42)控制成，在由基板旋转装置(10、20)保持的基板(W)到达规定的旋转速度前使处于离开位置的清洗装置(41)向清洗位置(P3)移动，同时在基板到达规定旋转速度后使清洗装置到达清洗位置(P3)。采用本发明，可提高基板清洗工序中的处理量。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板旋转装置，所述基板旋转装置对基板进行保持并使所述基板旋转；清洗装置，所述清洗装置与通过所述基板旋转装置而以清洗所述基板时所需的规定的旋转速度旋转的所述基板接触来清洗所述基板；移动装置，所述移动装置使所述清洗装置在接触所述基板的清洗位置与离开位置之间移动，该离开位置是离开所述基板且与所述基板的面相对的位置；以及第1控制部，所述第1控制部将所述移动装置控制成，在由所述基板旋转装置保持的所述基板到达所述规定的旋转速度前，使处于所述离开位置的所述清洗装置开始向所述清洗位置移动，并且在所述基板到达所述规定的旋转速度后，使所述清洗装置到达所述清洗位置，当将所述清洗装置通过所述移动装置而从所述离开位置移动至所述清洗位置所需的时间作为移动时间、将所述基板通过所述基板旋转装置而从开始旋转至到达所述规定的旋转速度所需的时间作为到达时间时，所述第1控制部将所述移动装置以及所述基板旋转装置控制成：当所述移动时间与所述到达时间相同或所述移动时间大于所述到达时间时，与所述基板通过所述基板旋转装置而开始旋转的同时地，或者比所述基板通过所述基板旋转装置开始旋转还早比所述移动时间与所述到达时间之差短的时间地，使处于所述离开位置的所述清洗装置开始向所述清洗位置移动。