[发明专利]碳化硅膜的制备方法有效
申请号: | 201410162587.6 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN103911597B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 涂溶;朱佩佩;章嵩;张联盟 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人: | 崔友明 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种碳化硅膜的制备方法,包括有以下步骤1)选择Si基片为衬底材料,首先使用酒精超声,然后在混合液中清洗,然后在以体积比HFH2O=150混合液中清洗,最后用去离子水冲洗,用氮气将衬底吹干放入腔体内;2)使腔体的真空度保持在10Pa,向腔体内通入高纯的Ar气,再调节压强,使腔体内的压强为10000Pa,同时设置衬底材料升温;3)在设定温度下保温,再通入Ar气将六甲基二硅烷带入腔体内;4)停止通入Ar气和六甲基二硅烷,保持腔体的真空度在10Pa左右,并冷却至室温。本发明具有以下有益效果本发明降低了制备温度,提高了生长速率;降低了环保成本,提高了安全生产指数。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 制备 方法 | ||
【主权项】:
碳化硅膜的制备方法,包括有以下步骤:1)选择Si基片为衬底材料,首先使用酒精超声,然后在以体积比NH3·H2O:H2O2:H2O=1:1:5混合液中清洗,然后在以体积比HF:H2O=1:50混合液中清洗,最后用去离子水冲洗,用氮气将衬底材料吹干放入腔体内;2)使腔体的真空度保持在10Pa,向腔体内通入高纯的Ar气,再调节压强,使腔体内的压强为10000Pa,同时设置衬底材料升温的程序为90min从室温升到设定温度;所述的Ar气的流速为200‑2000sccm;所述衬底材料的设定温度为大于等于800小于900℃;3)在设定温度下保温,再通入Ar气将六甲基二硅烷带入腔体内,调节腔体压强为2000Pa,通入六甲基二硅烷的时间为30min;六甲基二硅烷的流速为5‑20sccm;4)停止通入Ar气和六甲基二硅烷,保持腔体的真空度在10Pa左右,并冷却至室温。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的