[发明专利]碳化硅膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410162587.6 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN103911597B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 涂溶;朱佩佩;章嵩;张联盟 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C23C16/32 分类号: C23C16/32
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 代理人: 崔友明
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种碳化硅膜的制备方法,包括有以下步骤1)选择Si基片为衬底材料,首先使用酒精超声,然后在混合液中清洗,然后在以体积比HFH2O=150混合液中清洗,最后用去离子水冲洗,用氮气将衬底吹干放入腔体内;2)使腔体的真空度保持在10Pa,向腔体内通入高纯的Ar气,再调节压强,使腔体内的压强为10000Pa,同时设置衬底材料升温;3)在设定温度下保温,再通入Ar气将六甲基二硅烷带入腔体内;4)停止通入Ar气和六甲基二硅烷,保持腔体的真空度在10Pa左右,并冷却至室温。本发明具有以下有益效果本发明降低了制备温度,提高了生长速率;降低了环保成本,提高了安全生产指数。
搜索关键词: 碳化硅 制备 方法
【主权项】:
碳化硅膜的制备方法,包括有以下步骤:1)选择Si基片为衬底材料,首先使用酒精超声,然后在以体积比NH3·H2O:H2O2:H2O=1:1:5混合液中清洗,然后在以体积比HF:H2O=1:50混合液中清洗,最后用去离子水冲洗,用氮气将衬底材料吹干放入腔体内;2)使腔体的真空度保持在10Pa,向腔体内通入高纯的Ar气,再调节压强,使腔体内的压强为10000Pa,同时设置衬底材料升温的程序为90min从室温升到设定温度;所述的Ar气的流速为200‑2000sccm;所述衬底材料的设定温度为大于等于800小于900℃;3)在设定温度下保温,再通入Ar气将六甲基二硅烷带入腔体内,调节腔体压强为2000Pa,通入六甲基二硅烷的时间为30min;六甲基二硅烷的流速为5‑20sccm;4)停止通入Ar气和六甲基二硅烷,保持腔体的真空度在10Pa左右,并冷却至室温。
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