[发明专利]下电极装置以及等离子体加工设备有效
申请号: | 201410163430.5 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN104715996B | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 张璐;张彦召;陈鹏 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 彭瑞欣,张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种下电极装置以及等离子体加工设备,其包括用于承载被加工工件的承载件;该承载件采用导电材料制作,并且在承载件上表面的不同区域之间存在高度差。本发明提供的下电极装置,其通过使承载件上表面的不同区域之间存在高度差,即,使承载件上表面的不同位置与地之间的距离不同,可以调节各个区域的电场强度,以补偿在各个区域之间存在的电场强度的差异,从而可以使等离子体相对于承载件上表面的各个区域的分布趋于均匀,进而可以提高工艺的均匀性,改善工艺结果。 | ||
搜索关键词: | 电极 装置 以及 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种下电极装置,用于电感耦合等离子体加工设备,其特征在于,包括用于承载被加工工件的承载件,所述承载件用于承载多个被加工工件,所述承载件包括基座,多个承载位分别在基座上表面的不同半径所在的圆周上均匀排布,多个被加工工件对应地设置于多个承载位上;所述承载件采用导电材料制作,并且在所述承载件上表面上形成有凹部,所述凹部采用闭合的环形结构,且以所述承载件上表面的中心为几何中心,所述凹部为多个,对应于同一半径的圆周上被加工工件的底部,分别设置两个所述凹部。
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