[发明专利]一种缺陷检测和观察设备的位置同步方法

摘要

本发明提供了一种缺陷检测和观察设备的位置同步方法，涉及半导体检测工艺领域，包括提供参照晶圆，参照晶圆上设有缺陷；采用缺陷检测设备检测参照晶圆，并通过缺陷观察设备观察缺陷，缺陷观察设备根据第一偏差值对缺陷的观察程序进行修正；经过设定的时间间隔后，再次通过缺陷检测设备和缺陷观察设备检测和观察参照晶圆的缺陷，得到缺陷检测设备和缺陷观察设备的中心位置的第二偏差值；并根据第二偏差值对第一偏差值进行修正和更新。本发明的技术方案能够保持缺陷检测和观察设备的中心位置的一致，从而避免由于两者之间的巨大差异造成自动观察的失败。

主权项

一种缺陷检测和观察设备的位置同步方法，应用于晶圆缺陷的检测和观察，所述缺陷检测和观察设备包括缺陷检测设备和缺陷观察设备，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤1，提供参照晶圆，所述参照晶圆上设有数量大于2颗的缺陷；步骤2，采用所述缺陷检测设备检测所述参照晶圆，并通过缺陷观察设备观察所述缺陷，以得到所述缺陷检测设备和缺陷观察设备的中心位置的第一偏差值，所述缺陷观察设备根据所述第一偏差值对缺陷的观察程序进行修正，以使得所述缺陷检测设备和缺陷观察设备的中心位置保持一致；步骤3，经过设定的时间间隔后，再次通过所述缺陷检测设备和缺陷观察设备检测和观察所述参照晶圆的缺陷，以得到所述缺陷检测设备和缺陷观察设备的中心位置的第二偏差值；步骤4，所述缺陷观察设备根据所述第二偏差值对第一偏差值进行修正和更新，以保持所述缺陷检测设备和缺陷观察设备的中心位置的一致；其中，所述缺陷观察设备为电子显微镜。