[发明专利]用于X射线散射分析的X射线分析系统有效
申请号: | 201410167870.8 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN104132954B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | J·S·皮德森 | 申请(专利权)人: | 布鲁克AXS有限公司 |
主分类号: | G01N23/201 | 分类号: | G01N23/201;G01N23/207 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈华成 |
地址: | 德国卡*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及用于X射线散射分析的X射线分析系统。该X射线分析系统包括:X射线源,用于产生沿透射轴(3)传播的X射线的射束;至少一个具有孔隙的混合狭缝(5b),该孔隙限定射束的横截面的形状;样品,由混合狭缝(5b)成形的射束照射到该样品上;X射线检测器,用于检测来自于该样品的X射线,其中混合狭缝(5b)包括至少三个混合狭缝元件(7),每个混合狭缝元件(7)包括以锥角α≠0与基底(9)结合的单晶基板(8),混合狭缝元件(7)的单晶基板(8)限制该孔隙,该X射线分析系统的特征在于,混合狭缝元件(7)沿透射轴(3)以一定偏移量交错布置。本发明的X射线分析系统表现出改进的分辨率和信噪比。 | ||
搜索关键词: | 用于 射线 散射 分析 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于X射线散射分析的X射线分析系统(1),包括:X射线源(2),用于产生沿透射轴(3)传播的X射线的射束(XB);至少一个具有孔隙的混合狭缝(5b),所述孔隙限定所述射束(XB)的横截面的形状;样品(6),由所述混合狭缝(5b)成形的射束(XB)被引导到该样品(6)上;以及X射线检测器(10),用于检测来自于所述样品(6)的X射线,其中所述混合狭缝(5b)包括n个混合狭缝元件(7),每个混合狭缝元件(7)包括以锥角α≠0与基底(9)结合的单晶基板(8),所述混合狭缝元件(7)的所述单晶基板(8)限制所述孔隙,其中所述混合狭缝元件(7)被布置为形成多边形,所述多边形在沿所述透射轴(3)的投影中观察具有n边,其中n>4,所述X射线分析系统(1)的特征在于,所述混合狭缝元件(7)沿透射轴(3)以一定偏移量交错布置,以使孔隙的尺寸不取决于单晶基板的尺寸,以及所述混合狭缝元件(7)能够沿所述透射轴(3)的方向和/或垂直于所述透射轴(3)移动,其中混合狭缝元件(7)能够根据其沿所述透射轴的位置来移动不同的距离。
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