[发明专利]二维大规模激光束阵列占空比调节装置有效
| 申请号： | 201410172792.0 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN104020566B | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 周军;杨依枫;何兵;刘厚康;郑也;胡曼 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种二维大规模激光束阵列占空比调节装置，包括共轴放置的凸面角锥棱镜与凹面角锥棱镜，两角锥棱镜直径相同，边缘厚度相同，圆锥面互补。该装置可以实现二维排布的大规模激光束阵列占空比的调节，从而提高相干合成远场艾里斑的亮度。该装置具有占空比调节范围大，调节方便，结构简单紧凑，稳定性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 大规模 激光束 阵列 调节 装置 | ||
【主权项】：
一种二维大规模激光束阵列占空比调节装置，其特征是：由同光轴凸面圆锥棱镜(1)和凹面圆锥棱镜(2)组成，所述的凸面圆锥棱镜(1)的底面、凸面圆锥棱镜(1)的圆锥面、凹面圆锥棱镜(2)的圆锥面和凹面圆锥棱镜(2)的底面沿光轴依次排列，所述的凸面圆锥棱镜(1)或凹面圆锥棱镜(2)置于沿光轴移动的调节机构上。
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