[发明专利]一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法有效
申请号: | 201410176717.1 | 申请日: | 2014-04-29 |
公开(公告)号: | CN105024016B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 申智渊;高卓 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L51/54 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种柔性基板、柔性显示器及其制备方法,其中,柔性基板制备方法,包括步骤:A、在聚合物溶液中添加无机纳米材料,制备出包含无机纳米材料的聚合物溶液;B、将添加无机纳米材料的聚合物溶液涂覆到玻璃基板上;C、通过加热或光照射处理将聚合物溶液形成聚合物薄膜,从而制成柔性基板。本发明通过在聚合物溶液中添加无机纳米材料,然后在玻璃基板上通过加热或光照射的方式直接成膜,使得制得的聚合物薄膜本身就具有了水氧阻隔特性,而无需再在聚合物薄膜上制作无机膜和有机膜,简化了柔性基板与柔性显示器的制作工艺,提高了生产效率,且同样能达到水氧阻隔性能。 1 | ||
搜索关键词: | 聚合物溶液 柔性基板 无机纳米材料 制备 聚合物薄膜 柔性显示器 玻璃基板 光照射 加热 水氧阻隔性能 生产效率 水氧阻隔 制作工艺 无机膜 有机膜 成膜 涂覆 制作 | ||
【主权项】:
1.一种柔性基板制备方法,其特征在于,包括步骤:A、在聚合物或聚合物前驱体溶液中添加无机纳米材料,制备出包含无机纳米材料的聚合物溶液;B、将添加无机纳米材料的聚合物溶液涂覆到玻璃基板上;C、通过加热或光照射处理将聚合物溶液形成聚合物薄膜,从而制成柔性基板;按质量百分比计,所制备的聚合物溶液中,无机纳米材料的含量为10%~20%;100ml聚合物溶液中所含有的无机纳米材料为10~20g;所述步骤C中,采用加热方法时,先预热一段时间,然后阶梯式升温到聚合物的热分解温度Tg,并在Tg的温度条件下加热2小时,然后降温至室温,完成聚合物薄膜的制作;在阶梯式升温过程中,在每个温度条件下停留30分钟;所述步骤C中,采用光照射方法时,先预热一段时间,然后采用阶梯式增加照射能量的方式进行照射,并在每一照射能量的条件下,照射5~15分钟,最高照射能量对应聚合物的热分解温度Tg;所述聚合物薄膜中,无机纳米材料无序排列,从而使得空气中的水与氧通过聚合物薄膜时的路径变长,提高了聚合物薄膜的水氧阻隔特性,这样最后制得的柔性基板就作为具有水氧阻隔性能的衬底材料,而无需再制作阻隔层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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