[发明专利]一种基于鞣酸的化学增幅型紫外正性光致抗蚀剂材料及其合成方法在审
申请号: | 201410178272.0 | 申请日: | 2014-04-30 |
公开(公告)号: | CN104341468A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 王力元;魏琪 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | C07H13/08 | 分类号: | C07H13/08;C07H1/00;G03F7/039 |
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地址: | 100875 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种新型的基于鞣酸的化学增幅型紫外正性光致抗蚀剂材料及其合成方法。鞣酸先后与二叔丁基碳酸酐及2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化反应,得到部分酚羟基被叔丁基碳酸酯基保护的2,1,4-重氮萘醌磺酸酯。由于2,1,4-重氮萘醌磺酸酯基团作为常用的感光基团的同时具有光致产酸作用,在后烘条件下催化保护基团分解,导致曝光部分的碱溶性进一步变大,可由稀碱水显影成像。因此可用作一种新颖的化学增幅型单组分紫外正性光致抗蚀剂材料,也可和酚醛树脂等其它成膜材料一起组成双组分紫外正性光致抗蚀剂材料。具有感度及分辨率高、反差大、显影宽容性好等优点。原料易得,合成方法简便,可实现工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 鞣酸 化学 增幅 紫外 正性光致抗蚀剂 材料 及其 合成 方法 | ||
【主权项】:
一种如下通式(I)所示的苯环上部分羟基被酯化的鞣酸衍生物,叔丁氧羰基‑鞣酸‑重氮萘醌磺酸酯:其中基团R独立选自H、2,1,4‑重氮萘醌磺酰基或叔丁氧羰基,且不同时为H;
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