[发明专利]一种金属掩膜板有效
| 申请号： | 201410178390.1 | 申请日： | 2014-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN103966546A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 张鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种金属掩膜板，以解决真空蒸镀法中衬底基板与金属掩膜板对位困难、对位误差较大的问题。所述金属掩膜板用于真空蒸镀法中作为衬底基板的掩膜板，所述金属掩膜板包括掩膜图形及若干对位孔，所述对位孔在所述金属掩膜板中的延伸方向与所述金属掩膜板所在平面的垂直方向不重合，且所述对位孔不穿透所述金属掩膜板。本发明实施例中，光线在对位孔内多次反射且一部分光线被吸收，CCD系统根据金属掩膜板的对位孔和衬底基板的对位标记生成的图像具有较大的颜色对比，因此容易区分，从而降低对位难度，减小对位误差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种金属掩膜板，用于真空蒸镀法中作为衬底基板的掩膜板，所述金属掩膜板包括掩膜图形及若干对位孔，其特征在于，所述对位孔在所述金属掩膜板中的延伸方向与所述金属掩膜板所在平面的垂直方向不重合，且所述对位孔不穿透所述金属掩膜板。
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