[发明专利]一种静电红外线热辐射光学PC材料及制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410178894.3 申请日: 2014-04-29
公开(公告)号: CN103937190A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 孔作万 申请(专利权)人: 东莞市普万光电散热科技有限公司
主分类号: C08L69/00 分类号: C08L69/00;C08L79/02;C08L83/00;C08K3/36;F21V3/04;F21Y101/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋;杨晞
地址: 516127 广东省东莞市常平镇板石村南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种静电红外线热辐射光学PC材料及制备方法和应用,所述光学PC材料按其各组分占光学PC材料的质量百分比主要由如下原料制备得到:聚碳酸酯93~98%、聚苯胺1~3‰以及有机硅1~6%,所述光学PC材料的各组分的质量百分比之和为100%。本发明所述光学PC材料兼具高的透明度、优异的耐老化以及抗静电性能,并且在LED灯使用期间通过光通亮穿透中形成红外线把内部的热量辐射到光学PC材料外部,解决了LED灯的散热问题,延长了LED芯片的使用寿命,并且不影响光学PC材料的光通量,可用于光学照明产品的灯罩。
搜索关键词: 一种 静电 红外线 热辐射 光学 pc 材料 制备 方法 应用
【主权项】:
一种静电红外线热辐射光学PC材料,其特征在于,所述光学PC材料按其各组分占光学PC材料的质量百分比主要由如下原料制备得到:聚碳酸酯  93~98%聚苯胺    1~3‰有机硅    1~6%;所述有机硅由如下方法制备得到:在氮气保护下,将质量比为7:3的纳米SiO2粉体和有机硅液体加入反应釜中,设定反应釜温度为60~80℃,在80r/min的转速中使纳米SiO2粉体溶解在有机硅液体中,然后在搅拌条件下反应5h后,向反应釜中依次加入有机硅液体质量的1~3%的水溶性硅酸钠和有机硅液体质量的1~3%的N2O,进行水解反应5~8h,得到透明粘稠状液体有机硅;所述光学PC材料的各组分的质量百分比之和为100%。
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