[发明专利]一种快速高效制备硫化铜纳米薄膜的方法在审
申请号: | 201410179772.6 | 申请日: | 2014-04-30 |
公开(公告)号: | CN103938189A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 夏国栋;王素梅 | 申请(专利权)人: | 齐鲁工业大学 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00;C01G3/12;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 张贵宾 |
地址: | 250353 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于无机材料领域,特别涉及一种快速高效制备硫化铜纳米薄膜的方法。(1)合成黄原酸铜单源前驱体;(2)制备单源黄原酸铜前驱体溶液;(3)制备硫化铜薄膜。本发明工艺快速易操作,原料廉价易得,所制备的硫化铜薄膜结晶质量高,成分易控制,外观上连续,均匀,致密,表面平整光亮,且与衬底的结合牢固可靠,也可在形状复杂的衬底上制备薄膜;通过上述工艺可以避免通常的多步复杂工艺、工艺周期长或高真空昂贵设备等,成本低,适合工业化大规模生产,所制备的硫化铜薄膜可应用于太阳能电池、光电转换开关、气敏传感器等光电器件中。 | ||
搜索关键词: | 一种 快速 高效 制备 硫化铜 纳米 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种快速高效制备硫化铜纳米薄膜的方法,其特征在于包括如下技术方案:(1) 合成单源前驱体:采用沉淀法合成单源黄原酸铜前驱体;(2) 制备前驱体溶液:将单源黄原酸铜前驱体溶解在吡啶或含吡啶基团溶剂中,制备出均匀的浓度为0.01‑2.5g/ml的黄原酸铜前驱体溶液;(3) 制备硫化铜薄膜:将黄原酸铜前驱体溶液涂覆到清洗好的衬底上形成前驱体薄膜,然后经过一定温度、时间和气氛的退火,就可得到硫化铜薄膜或颗粒层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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