[发明专利]清洁刮板、清洁刮板的制造方法、处理盒和电子照相设备有效
| 申请号： | 201410181122.5 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN104133360A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 辛岛贤司;河田将也;田上智博;渡部政弘;伊藤真吾 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G21/00 | 分类号： | G03G21/00;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及清洁刮板、清洁刮板的制造方法、处理盒和电子照相设备。一种聚氨酯橡胶清洁刮板，其中清洁刮板的与被清洁构件接触的接触部的表面具有10mgf/μm2以上且400mgf/μm2以下的杨氏模量(Y0)，清洁刮板的距所述接触部的表面为50μm的内部位置的杨氏模量(Y50)与杨氏模量(Y0)的比例(Y50/Y0)为0.5以下，和清洁刮板的从所述表面到距所述表面为20μm的内部位置的杨氏模量的平均变化率大于或等于清洁刮板的从距所述表面为20μm的内部位置到清洁刮板的距所述表面为50μm的内部位置的杨氏模量的平均变化率。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 制造 方法 处理 电子 照相 设备 | ||
【主权项】：
一种聚氨酯橡胶清洁刮板，其配置为与被清洁构件接触并清洁所述被清洁构件的表面，其中所述清洁刮板的与所述被清洁构件接触的接触部的表面C具有10mgf/μm2以上且400mgf/μm2以下的杨氏模量Y0；所述清洁刮板的距所述表面C为50μm的内部位置的杨氏模量Y50与所述杨氏模量Y0的比例Y50/Y0为0.5以下，和所述清洁刮板的从所述表面C到距所述表面C为20μm的内部位置的杨氏模量的平均变化率[{(Y0‑Y20)/Y0}/(20‑0)]，大于或等于所述清洁刮板的从距所述表面C为20μm的内部位置到所述清洁刮板的距所述表面C为50μm的内部位置的杨氏模量的平均变化率[{(Y20‑Y50)/Y0}/(50‑20)]，其中Y0表示所述表面C的杨氏模量，且Y20和Y50分别表示所述清洁刮板的距所述表面C为20和50μm的内部位置的杨氏模量。
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