[发明专利]一种耐光型超分子插层结构颜料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410183476.3 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN103965654A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 李殿卿;钱磊磊;唐平贵;冯拥军 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C09B69/02 分类号: C09B69/02;C09B67/20
代理公司: 北京金富邦专利事务所有限责任公司 11014 代理人: 揭玉斌;蔡志勇
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种耐光型超分子插层结构颜料及其制备方法,本发明是将染料阴离子与光稳定剂阴离子共同插入水滑石层间,利用光稳定剂阴离子的紫外吸收、能量转移、激发态猝灭等作用来提高层间染料阴离子的耐光性,并通过调节光稳定剂与染料阴离子间的相互作用,改变染料阴离子的可见光吸收光谱,对产品的颜色进行调控,从而制备得到颜色可调、耐光性优异的超分子插层结构颜料。本发明所制备的耐光型超分子插层结构颜料具有制备方法简单、原料来源丰富、便于工业化生产的优点。可广泛应用于塑料、涂料等领域。
搜索关键词: 一种 耐光型超 分子 结构 颜料 及其 制备 方法
【主权项】:
一种耐光型超分子插层结构颜料,其化学通式为:[M2+1‑xM3+x(OH)2](An‑)y(Bm‑)z·cH2O其中M2+和M3+分别是位于主体层板上的二价和三价金属阳离子,M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种,M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+等三价金属阳离子中的一种或两种;An‑为染料A的阴离子,Bm‑为光稳定剂阴离子;x为M3+/(M2++M3+)的摩尔比值,x=yn+zm(0.1≤x≤0.5,0<y<0.5,0<z<0.5,0.05≤y/z≤20);c为层间水分子个数,0.4<c<1;所述的染料A包含可溶于水的酸性染料、媒介染料或直接染料,染料A的阴离子An‑有一价、二价、三价、四价阴离子,即n=1‑4,是根据最终产品所需要的颜色对染料颜色进行选择和调配;所述的酸性染料是所有颜色及编号的可溶于水的酸性染料中的一种或几种;所述的媒介染料是所有颜色及编号的可溶于水的媒介染料中的一种或几种;所述的直接染料是所有颜色及编号的可溶于水的直接染料中的一种或几种;所述的光稳定剂为含有磺酸根基团或羧酸根基团的对氨基苯甲酸类、肉桂酸类、水杨酸类、二苯甲酮类、香豆素类、苯并三唑类、苯并咪唑类、三嗪类、草酰胺类、受阻胺类中的一种或几种。所述的光稳定剂的阴离子Bm‑有一价、二价、三价、四价阴离子,m=1‑4。
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