[发明专利]光学防伪元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201410183584.0 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN105015215B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;李成垚;周赟;李欣毅;张宝利;张昊宇;朱军;吴远启 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/30 | 分类号： | B42D25/30;B42D25/40 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人： | 罗攀,肖冰滨 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学防伪元件及其制造方法，该方法包括在基材(1)上形成起伏结构层(2)，该起伏结构层(2)至少包括具有第一起伏结构的第一区域和与该第一区域相邻的具有第二起伏结构的第二区域，其中该第二起伏结构具有与所述基材(1)平面的夹角大于45度的侧壁，且该第二起伏结构的深宽比小于0.3；在所述起伏结构层(2)上形成镀层(3)；以及将所述镀层(3)置于去镀层环境中，直到所述第二区域上的镀层(3)从所述起伏结构层(2)剥离为止。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学防伪元件，该元件包括：基材(1)；位于所述基材(1)上的起伏结构层(2)，该起伏结构层(2)至少包括具有第一起伏结构的第一区域和与该第一区域相邻的具有第二起伏结构的第二区域，其中该第二起伏结构具有与所述基材(1)平面的夹角大于45度的侧壁，且该第二起伏结构的深宽比小于0.3；以及位于所述第一区域上的镀层(3)，其特征在于，所述第一起伏结构的侧面与基材平面的夹角的最大值小于30度。
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