[发明专利]一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201410183601.0 申请日: 2014-04-30
公开(公告)号: CN105023991B 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 程君;严敏;周鸣波 申请(专利权)人: 环视先进数字显示无锡有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/62
代理公司: 北京权泰知识产权代理事务所(普通合伙)11460 代理人: 王道川,杨勇
地址: 214100 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法,包括对碳化硅SiC基板的整板镀导电介质;对SiC基板进行激光钻通孔加工;对SiC基板的整板镀导电介质;其中所述通孔由所述导电介质完全填充;对所述SiC基板的第一表面的导电介质进行图形化刻蚀;对所述SiC基板的第二表面的导电介质进行图形化刻蚀;气相淀积SiO2,形成基板保护层;对所述SiC基板的上表面的基板保护层进行图形化刻蚀,在图形化区域内露出金属焊盘电极;在所述金属焊盘电极上生长晶格适配层;所述晶格适配层的晶格结构与所述LED的晶格结构相同。
搜索关键词: 一种 基于 无机物 led 电路板 制造 方法
【主权项】:
一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:对碳化硅SiC基板的整板镀导电介质;对SiC基板进行激光钻通孔加工;对SiC基板的整板镀导电介质;其中所述通孔由所述导电介质完全填充;对所述SiC基板的第一表面的导电介质进行图形化刻蚀;对所述SiC基板的第二表面的导电介质进行图形化刻蚀;气相淀积SiO2,形成基板保护层;对所述SiC基板的上表面的基板保护层进行图形化刻蚀,在图形化区域内露出金属焊盘电极;在所述金属焊盘电极上生长晶格适配层;所述晶格适配层的晶格结构与所述LED的晶格结构相同。
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