[发明专利]一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法有效
申请号: | 201410183601.0 | 申请日: | 2014-04-30 |
公开(公告)号: | CN105023991B | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 程君;严敏;周鸣波 | 申请(专利权)人: | 环视先进数字显示无锡有限公司 |
主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/62 |
代理公司: | 北京权泰知识产权代理事务所(普通合伙)11460 | 代理人: | 王道川,杨勇 |
地址: | 214100 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法,包括对碳化硅SiC基板的整板镀导电介质;对SiC基板进行激光钻通孔加工;对SiC基板的整板镀导电介质;其中所述通孔由所述导电介质完全填充;对所述SiC基板的第一表面的导电介质进行图形化刻蚀;对所述SiC基板的第二表面的导电介质进行图形化刻蚀;气相淀积SiO2,形成基板保护层;对所述SiC基板的上表面的基板保护层进行图形化刻蚀,在图形化区域内露出金属焊盘电极;在所述金属焊盘电极上生长晶格适配层;所述晶格适配层的晶格结构与所述LED的晶格结构相同。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 无机物 led 电路板 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基于无机物的LED积层电路板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:对碳化硅SiC基板的整板镀导电介质;对SiC基板进行激光钻通孔加工;对SiC基板的整板镀导电介质;其中所述通孔由所述导电介质完全填充;对所述SiC基板的第一表面的导电介质进行图形化刻蚀;对所述SiC基板的第二表面的导电介质进行图形化刻蚀;气相淀积SiO2,形成基板保护层;对所述SiC基板的上表面的基板保护层进行图形化刻蚀,在图形化区域内露出金属焊盘电极;在所述金属焊盘电极上生长晶格适配层;所述晶格适配层的晶格结构与所述LED的晶格结构相同。
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