[发明专利]一种实现光瞳偏振态任意分布的光刻照明系统设计方法有效
| 申请号： | 201410187396.5 | 申请日： | 2014-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN103926806A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;魏立冬 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李爱英;杨志兵 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种实现光瞳偏振态任意分布的光刻照明系统设计方法，具体步骤为：步骤一、在光刻照明系统的柱面扩束镜与微透镜阵列之间设置m个光学相位延时元件；步骤二、根据所需的光刻照明系统偏振态的要求，不断优化光学相位延时元件之间的相对位置，直至光刻照明系统的光瞳偏振态满足要求为止。本发明通过优化光学相位延时元件的相对位置，可以精确实现所需要的任意光瞳偏振态分布，并减少光瞳能量损失，降低光源误差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 偏振 任意 分布 光刻 照明 系统 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种实现光瞳偏振态任意分布的光刻照明系统设计方法，其特征在于，具体步骤为：步骤一、在光刻照明系统的柱面扩束镜与微透镜阵列之间设置m个光学相位延时元件；步骤二、根据所需的光刻照明系统偏振态的要求，不断优化光学相位延时元件之间的相对位置，直至光刻照明系统的光瞳偏振态满足要求为止。
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