[发明专利]一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法

摘要

本发明涉及一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法，具体技术方案如下：(1)将纳米金属制成初始悬浊液；(2)制备添加剂，添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂；(3)将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中；(4)制备保护层涂布墨水，保护层涂布油墨包括硅氧化合物、硅烷偶联剂、表面活性剂和溶剂；(5)将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上，最后得到导电薄膜；(6)将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上；(7)最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低的导电层；在导电薄膜上再涂覆具有硬度大的保护层，提高导电薄膜的高温高湿环境下的耐受性，并降低表面电阻。

主权项

一种高透过率纳米金属透明导电膜的制造方法，具体技术方案如下：(1)将纳米金属制成初始悬浊液；纳米金属是纳米金线、铜线或银线中的任意一种，纳米金属线含量0.1～1％，线长在0.1～100μm，线径在10nm～100nm；纳米金属的初始悬浊液的溶剂为纯水；(2)制备添加剂，添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂；水性粘合剂为聚乙烯醇；表面活性剂为聚乙二醇辛基苯基醚；(3)将添加剂加入纳米金属初始悬浊液中，配成涂布纳米金属墨水，粘度20cP～100cP，其中纳米金属的含量为0.05～0.3％，水性粘合剂的含量为0.1～1％，表面活性剂含量0.01～0.1％；(4)制备保护层涂布墨水，保护层涂布墨水包括硅氧化合物、硅烷偶联剂、表面活性剂和溶剂，硅氧化物包括粒径10nm～15nm纳米球形二氧化硅、硅酸盐或水性硅油，硅氧化物含量占保护层涂布油墨的0.01～1％；硅烷偶联剂占保护层涂布墨水的0.05～0.5％；表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺或聚乙二醇辛基苯基醚，表面活性剂占保护层涂布墨水的0.01～0.1％；溶剂是水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇或异丙醇；(5)将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟～20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟～20分钟，最后得到导电薄膜；(6)将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟～20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟～20分钟，得到高硬度、致密性好的导电层；(7)最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低的导电层。