[发明专利]一种等离子喷涂羟基磷灰石涂层的晶化处理方法无效
申请号: | 201410188958.8 | 申请日: | 2014-05-07 |
公开(公告)号: | CN104164644A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 熊震国;李彤;侯保义;黄永玲;刘忠良;乔镇;覃格姬;安国宏 | 申请(专利权)人: | 北京百慕航材高科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C4/18 | 分类号: | C23C4/18;A61L27/32 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 李建英 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于外科植入物涂层技术领域,涉及一种提高等离子喷涂羟基磷灰石涂层结晶相含量的方法。将羟基磷灰石涂层产品放置在一个可抽真空的容器中,首先将容器内的空气抽出形成真空环境,然后再通入饱和水蒸气并加热整个容器到500-900℃处理2~6个小时。在高温和饱和水蒸气的同时作用下,不但能促使羟基磷灰石涂层中的非晶相转化为结晶相而且能将羟基磷灰石涂层中的热分解产物转变为羟基磷灰石结晶相,从而极大提高产品涂层的结晶相含量。本方法工艺涂层处理效果好,工艺稳定,适于规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 喷涂 羟基 磷灰石 涂层 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种等离子喷涂羟基磷灰石涂层的晶化处理方法,其特征在于,该方法包含下述步骤:(1)先将等离子喷涂后的羟基磷灰石涂层产品放置在一个带有充气和排气阀的密闭容器中的托架上,然后用真空泵将密闭容器内部抽至真空,真空度控制在1×10‑1Pa至1×10‑5Pa;(2)向容器中通入饱和水蒸汽,蒸汽压力为0.5MPa~2.0MPa;蒸汽通入量为10Kg/小时~50Kg/小时;(3)根据蒸汽通入压力和容器的整体结构强度,调整容器上排气阀的控制压力,使容器内的压力值保持在0.5MPa~2.0MPa;(4)加热整个容器至500~900℃,并保温2~6小时,加热及保温过程中持续水蒸汽的通入直至保温过程结束;(5)保温时间结束后,停止对容器的加热,关闭蒸汽通入和排出阀门,待容器内部自然冷却至室温后,打开排水阀门排出过程中形成的冷凝水,然后开启容器取出处理好的产品。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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