[发明专利]防止晶圆正面和背面污染的光刻胶收集杯结构有效
| 申请号： | 201410189103.7 | 申请日： | 2014-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN105093835B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 王阳;胡延兵 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 何丽英 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体生产中的设备，具体地说是一种防止晶圆正面和背面污染的光刻胶收集杯结构。包括上杯和下杯，所述上杯的内壁上设有用于引导废液往下流的导流槽结构，所述下杯的上面边缘沿周向设有防止废液回流的防止回流结构。所述导流槽结构为分布在上杯内壁上、并沿内壁向下的多个沟槽。所述防止回流结构为在下杯的上面边缘设有的环形挡圈。本发明结构简单，应用在半导体生产的涂胶过程中，防止涂胶过程产生的废液污染晶圆的正面和背面，提高了晶圆涂胶生产的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 正面 背面 污染 光刻 收集 结构 | ||
【主权项】：
1.一种防止晶圆正面和背面污染的光刻胶收集杯结构，其特征在于：包括上杯(1)和下杯(2)，所述上杯(1)的内壁上设有用于引导废液往下流的导流槽结构(3)，所述下杯(2)的上面边缘沿周向设有防止废液回流的防止回流结构(4)。
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