[发明专利]一种类金刚石镀膜过程中金属打底的工艺无效
| 申请号： | 201410193574.5 | 申请日： | 2014-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN103952663A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 李灿民;陶满 | 申请（专利权）人： | 合肥永信等离子技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种类金刚石镀膜过程中金属打底的工艺，包括等离子体清洗、金属网罩等离子沉积/金属有机物蒸汽输入沉积两步组成。等离子体清洗是将Ar，Kr等稀有气体充入真空罐体中，在工件上施加高压产生稀有气体的等离子体。金属网罩等离子沉积是将纯Ti、Cr等金属片和工件一起置于金属网罩内进行镀膜，高能量的等离子体会轰击纯Ti、Cr，使这些金属元素产生溅射或者逸出效应，可以在工件表面沉积一层薄薄的Ti、Cr的金属打底层。金属有机物蒸汽输入沉积是将含有Ti、Cr等金属元素的有机物液体置于外接金属罐内，通过加热使其变成蒸汽后通入真空罐内，在离子轰击作用下蒸汽会变成等离子体，从而在工件表面形成金属打底层。 | ||
| 搜索关键词： | 种类 金刚石 镀膜 过程 金属 打底 工艺 | ||
【主权项】：
一种类金刚石镀膜过程中金属打底的工艺，所述工艺包括：等离子体清洗、金属网罩等离子沉积/金属有机物蒸汽输入沉积两步组成。
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