[发明专利]一种单层过渡金属硫属化物薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201410194094.0 | 申请日: | 2014-05-08 |
公开(公告)号: | CN103964507A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 向斌;杨雷;黄建;伏启 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C01G39/06 | 分类号: | C01G39/06;C01B19/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 贺卫国 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种单层过渡金属硫属化物薄膜及其制备方法,所述过渡金属硫属化物薄膜具有由MX2表示的化学组成,其中M=Mo或W;X=S或Se,所述薄膜的面积大于0.01mm2。 | ||
搜索关键词: | 一种 单层 过渡 金属 硫属化物 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种单层过渡金属硫属化物薄膜,所述过渡金属硫属化物薄膜具有由MX2表示的化学组成,其中M=Mo或W;X=S或Se,所述薄膜的面积为0.01mm2以上并且5mm2以下。
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