[发明专利]一种准静态镀膜系统及利用其进行准静态镀膜的方法有效
| 申请号： | 201410194596.3 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN103993275A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 赵军;陈金良;刘钧;许倩斐 | 申请（专利权）人： | 浙江上方电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 赵卫康 |
| 地址： | 312300 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种镀膜系统及镀膜方法，尤其涉及一种准静态镀膜系统及利用其进行准静态镀膜的方法。它包括准静态镀膜腔室、设置在准静态镀膜腔室内的用于对基板表面进行沉积镀膜的镀膜组件；以及设置在准静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的传输组件；镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，往复扫描的距离是任何小于相邻靶材间距的距离。镀膜方法是将基板放置在基板架载体上，使基板进入所述准静态镀膜腔室并且使基板的待镀膜面朝向所述准静态镀膜腔室内的镀膜组件，使基板进行往复扫描镀膜，实现镀膜的均匀性。本发明系统和方法有别于其他的例如基板不动的静态镀膜方法,通过靶材内部的磁棒位置的移动提高镀膜均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静态 镀膜 系统 利用 进行 方法 | ||
【主权项】：
一种准静态镀膜系统，其特征在于包括准静态镀膜腔室、设置在所述准静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的镀膜组件；以及设置在所述准静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的传输组件；所述镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，所述往复扫描的距离是任何小于相邻靶材间距的距离。
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