[发明专利]一种实现离子镀沉积MCrAlX防护涂层的方法和装置有效
| 申请号： | 201410195488.8 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN103966556A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 彭徽;郭洪波;宫声凯;徐惠彬 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人： | 姜荣丽 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在真空环境下实现等离子体激活电子束物理气相沉积MCrAlX防护涂层的方法及实现上述方法的装置。所述方法在真空腔体中设置至少两个带有MCrAlX靶材的坩埚，并在靶材上方放置适量的金属Nb，电子枪轰击所述两个坩埚，实现金属Nb的熔化和MCrAlX靶材蒸发。在交流电弧源作用下，由金属Nb形成的高温熔池发射出大量热电子和MCrAlX蒸汽共同作用引发热阴极弧放电，形成高密度的MCrAlX等离子体蒸汽，在此过程中两个坩埚交替作为阳极和阴极。等离子体蒸汽在基板偏压作用下沉积形成MCrAlX涂层，涂层过程中基板可通过辐射预热。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 离子镀 沉积 mcralx 防护 涂层 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种离子镀沉积MCrAlX防护涂层的方法，其特征在于：在电子束物理气相沉积中制备MCrAlX防护涂层，在电子束蒸发MCrAlX靶材过程中获得较高密度的等离子体，并在基板偏压作用下实现MCrAlX防护涂层的高速沉积；所述的等离子体由金属Nb形成高温熔池发射出的大量热电子和MCrAlX金属蒸汽共同作用引发热阴极电弧放电获得。
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