[发明专利]一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201410201201.8 | 申请日： | 2014-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN103938174A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 赵宏达;刘革;于志凯 | 申请（专利权）人： | 沈阳东创贵金属材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C22C5/02;C22C1/02 |
| 代理公司： | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人： | 梁焱 |
| 地址： | 110015 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法，属于有色金属冶金技术领域，用于真空磁控溅射粉红色金靶材成分按重量百分比含Au82.0~95.0%，Pd0.5~7.0%，Fe0.3~4.0%，Cu0.5~3.0%，Cr0.1~3.0%，In0.05~1.0%；方法按以下步骤进行：（1）准备原料；将Au加热熔化，将Pd放入熔化的Au中，互熔后依次加入Fe、Cu、Cr和In；（2）将金属熔体搅拌均匀，然后加热至1200~1300℃，保温3~5min进行精炼；（3）浇注到预热的模具中，空冷至常温，获得铸坯；（4）铣面、轧制、退火、剪切和校平。本发明的粉红色金靶材应用于镀膜技术中，可获得色泽均匀、抗氧化性抗硫化性好、表面硬度高、耐磨性好的粉红色膜层，具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 磁控溅射 粉红色 金靶材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材，其特征在于成分按重量百分比含Au 82.0~95.0%，Pd 0.5~7.0%，Fe 0.3~4.0%，Cu 0.5~3.0%，Cr 0.1~3.0%，In 0.05~1.0%。
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