[发明专利]一种微型精确镀膜系统有效
申请号: | 201410202912.7 | 申请日: | 2014-05-15 |
公开(公告)号: | CN103993295A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 左雪芹;梅永丰;徐涛 | 申请(专利权)人: | 无锡迈纳德微纳技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52;C23C16/455 |
代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 牟彩萍 |
地址: | 214028 江苏省无锡市新区长*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种微型精确镀膜系统,所述微型精确镀膜系统包括反应腔系统、反应源系统和抽气系统,上部分为反应腔系统,下部分为反应源系统,反应腔系统与反应源系统密封连接,抽气系统与反应腔系统密封连接。本发明首次提出一种微型精确镀膜系统的一体化设计,专门适用于研究性领域工具化使用,本装置的优点是体积小不占空间,外观尺寸只有350*350*400mm,可直接放于桌面上;反应腔体实际空间小,且采用烘烤式加热方式,温场均匀,节约反应源用量;操作简单,只需输入沉积薄膜厚度,系统会自动匹配参数运行;相对于市面在售镀膜系统,设备使用以及维护成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 微型 精确 镀膜 系统 | ||
【主权项】:
一种微型精确镀膜系统,其特征在于:所述微型精确镀膜系统包括反应腔系统、反应源系统和抽气系统,上部分为反应腔系统,下部分为反应源系统,反应腔系统与反应源系统密封连接,抽气系统与反应腔系统密封连接,其中,所述反应腔系统包括真空腔室、反应源入口、抽气出口、样品入口和腔室加热装置,反应源入口、抽气出口、样品入口与真空腔室密封连通,反应源从反应源系统流出后通过反应源入口进入真空腔室,残留的反应源以及副产物由抽气出口排出反应腔系统,样品通过样品入口进入真空腔室;所述反应源系统包括反应源容器和反应源出口,反应源容器和反应源出口之间设有阀门,控制反应源的流出,所述反应源出口与反应腔系统的反应源入口相连;所述抽气系统与反应腔系统的抽气出口相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡迈纳德微纳技术有限公司,未经无锡迈纳德微纳技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410202912.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纳米多孔金属材料的制备方法
- 下一篇:用于向量计算和累计的装置和方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的