[发明专利]一种基膜脱铝的方法及设备

摘要

一种基膜脱铝的方法，其特征在于包括以下步骤a、将表面含有镀铝层的基膜送入清洗溶液中进行洗铝；b、将上述基膜送入清水进行清洗；c、将上述基膜烘干。上述基膜脱铝的方法所采用的基膜脱铝设备，包括清洗槽、基膜收放卷机构、烘箱，所述清洗槽被隔板分为清洗液槽和清水槽，所述烘箱位于清洗槽后方，所述基膜收放卷机构依次经过清洗槽、烘箱，其特征在于所述基膜脱铝设备还包括清洗溶液循环过滤机构。本发明在碱溶液循环系统中增加了清洗溶液循环过滤机构，使位于顶部的清洗溶液从清洗液槽内溢出到清洗溶液循环过滤机构内，其中的悬浮物被过滤，过滤后的清洗溶液通过循环再次回到清洗液槽内继续利用，提高了清洗溶液的利用效率。

主权项

一种基膜脱铝的方法所采用的基膜脱铝设备，该基膜脱铝的方法包括以下步骤：a、将表面含有镀铝层的基膜送入清洗溶液中进行洗铝；b、将上述基膜送入清水进行清洗；c、将上述基膜烘干；所述步骤a中洗铝的方法是将上述基膜送入第一清洗溶液槽的清洗溶液中，让基膜表面的镀铝层与清洗溶液反应，然后用毛辊洗刷基膜表面，接着用高压水刀对上述基膜表面进行冲洗，然后基膜进入第二清洗溶液槽内让基膜表面残留的镀铝层与清洗溶液继续反应，最后用高压水刀对上述基膜表面再次冲洗；所述清洗溶液的顶层被排出、过滤掉清洗溶液中的胶黏剂及杂质后重新送回清洗溶液，所述毛辊与基膜接触处毛辊表面运动的方向与基膜运动的方向相反；所述步骤a还包括实时检测清洗溶液的温度,并将清洗溶液的温度控制在预设温度范围内，具体步骤为：实时检测清洗溶液的温度，如果清洗溶液的温度低于预设温度范围的最低值，则对清洗溶液进行加热，直到清洗溶液的温度位于预设温度范围内，如果清洗溶液的温度高于预设温度范围的最大值，则对清洗溶液进行冷却，直到清洗溶液的温度位于预设温度范围内；基膜脱铝设备包括清洗槽、基膜收放卷机构、烘箱，所述清洗槽被隔板分为清洗液槽和清水槽，所述烘箱位于清洗槽后方，所述基膜收放卷机构依次经过清洗槽、烘箱，其特征在于：所述基膜脱铝设备还包括清洗溶液循环过滤机构，所述清洗溶液循环过滤机构包括杂质过滤槽，所述清洗液槽的侧壁顶部开有至少一个表层水排出口，并且杂质过滤槽位于所有表层水排出口下方，所述杂质过滤槽中部设有过滤网，所述杂质过滤槽的排液口与液体过滤器连接，液体过滤器通过管道连接清洗液槽；所述基膜脱铝设备还包括废气收集处理机构，所述废气收集处理机构包括密封盖板、排气罩和空气处理系统，所述密封盖板可移动的安装在清洗槽本体顶端开口上，所述密封盖板上留有让基膜进入清洗槽本体和离开清洗槽本体的缝，排气罩设在密封盖板上方，所述排气罩通过排气管道连接空气处理系统。