[发明专利]降低光掩模板条纹的方法及装置

摘要

本发明适用于光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置，所述方法包括下述步骤按照光刻机设备的光斑大小，光束数量计算图形由于光束能量差异造成的条纹的图形收缩系数；根据所述收缩系数对图形中的所有顶点进行收缩，得到收缩图形；根据所述收缩图形在将收缩图形进行光刻前，在设备上使用相反系数进行反补。本发明通过对产生光掩模板条纹的原因，对光掩模板进行光刻前光刻采用的图形进行反补，使得光刻后反补的效果抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情况。

主权项

降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：按照光刻机设备的光斑大小，光束数量计算图形由于光束能量差异造成的条纹的图形收缩系数；根据所述收缩系数对图形中的所有顶点进行收缩，得到收缩图形；根据所述收缩图形在将收缩图形进行光刻前，在设备上使用相反系数进行反补；所述图形收缩系数根据以下公式计算：K＝1+(PITCH‑W*N*M)/PITCH；其中，K为图形收缩系数，PTICH为图形的间距，W为光刻机设备的光斑大小，N为光束数量，M＝取整数(PITCH/(W*N))；所述相反系数为所述图形收缩系数的倒数。