[发明专利]化学浴沉积的方法和系统

摘要

一种用于化学浴沉积的装置，包括限定化学罐的壳体、循环管道、和设置在化学罐内部的至少一个流量调节器件。化学罐具有位于顶面上的开口，并且化学罐配置为在其中接收和容纳至少一个衬底。循环管道具有位于化学罐内部的至少一部分，并且循环管道配置为向化学罐供给至少一种化学物质。至少一个流量调节器件包括涡轮机、扩散器和起泡器、或它们的组合中的任何一种。本发明涉及化学浴沉积的方法和系统。

主权项

一种用于化学浴沉积的装置，包括：壳体，限定化学罐，所述化学罐具有位于顶面上的开口，并且所述化学罐配置为在所述化学罐中接收和容纳至少一个衬底；循环管道，具有位于所述化学罐内部的至少一部分，并且所述循环管道配置为向所述化学罐供给至少一种化学物质；以及至少一个流量调节器件，设置在所述化学罐内部，所述至少一个流量调节器件包括涡轮机或扩散器；其中，所述至少一个流量调节器件还包括邻近所述化学罐的底壁设置并且设置在所述化学罐的底壁之上的起泡器，并且所述起泡器配置为在所述化学罐内部提供气泡；其中，所述循环管道位于所述化学罐内部的部分具有配置为从所述循环管道向所述化学罐提供所述化学物质的多个通气孔，位于所述循环管道的所述部分上的所述多个通气孔的每个均配置为从所述循环管道基本上向下地提供所述化学物质。