[发明专利]气体供给头、气体供给机构和基板处理装置

摘要

本发明提供一种能够应对被处理基板的大型化地改善向处理室内的气体供给的均匀性，另外能够精度良好且容易制造的维护性也良好的气体供给头、气体供给机构和基板处理装置。该气体供给机构具备具有载置基板(G)的载置台(4)的基板处理装置(1)，包括气体供给头(6)、第一载置台内气体供给孔(8a)和第一气体供给线路(9a)。第一气体供给线路从第一气体供给源向下游侧去等长分支为2n根，其中，n为自然数，末端的2n根分支管的气体排出口在一直线上等间隔排列的状态下与第一载置台内气体供给孔连通，气体供给头将通过第一气体供给线路和第一载置台内气体供给孔供给的气体通过长槽状的第一气体扩散室均匀地从多个第一气体排出孔排出。

主权项

1.一种安装于基板处理装置的气体供给机构，其特征在于，包括：独立地供给不同的2种气体的2个系统的气体供给管，该气体供给管从一个气体供给源向下游侧去等长分支为2n根，末端的2n根分支管的气体排出口在一直线上等间隔排列，其中，n为自然数；和一个长条状的气体供给头，其包括与所述2个系统的气体供给管中的2个系统的所述2n根分支管的气体排出口分别连通的长槽状的独立的2个气体扩散室，和在长度方向上等间隔地形成的将导入到所述2个气体扩散室的气体分别排出的多个气体排出孔，所述气体供给头包括：头主体，其包括沿着所述长度方向设置的相互平行的第一铅垂壁和第二铅垂壁，以及连结所述第一铅垂壁和所述第二铅垂壁的水平壁；分别安装于所述头主体的所述水平壁的两表面的盖体；和在与所述长度方向正交的方向上与所述2个系统的气体供给管中的所述2个系统的2n根分支管分别连通并且与所述2个气体扩散室分别连通的2个系统的2n个头内气体供给孔，所述2个气体扩散室通过用所述盖体将与所述水平壁的两表面接触的长槽状的空间密闭而形成，所述气体排出孔，以分别隔着所述2个气体扩散室与所述2个系统的2n个头内气体供给孔分别相对并且在一直线上等间隔地排列的方式，与所述2个系统的2n根分支管各自对应地设置有多个。