[发明专利]金属基带上适用于REBCO超导层生长的模板制备方法有效
| 申请号： | 201410217749.1 | 申请日： | 2014-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103993277B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 赵遵成;田晓光;卢涛;杨广军 | 申请（专利权）人： | 赵遵成 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 475004 河南省开封*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是一种金属基带上适用于REBCO超导层生长的模板制备方法，属于高温超导材料制备技术领域。本发明包括以下步骤：（1）金属基带表面清洗；（2）采用化学溶液平坦化方法（SDP）在金属基带上制备隔离层；（3）采用离子束辅助射频磁控溅射方法(IBAD‑MgO)在隔离层上制备双轴织构氧化镁层；（4）采用射频磁控溅射方法制备锰酸镧层；（5）采用直流磁控反应溅射方法制备氧化铈层。本发明通过物理与化学制备方法的综合应用，为规模化生产高温超导带材模板提供了一种低成本制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基带 适用于 rebco 超导 生长 模板 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属基带上适用于REBCO超导层生长的模板制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)金属基带表面清洗，先用丙酮清洗，后用乙醇清洗；(2)采用化学溶液平坦化方法(SDP)在金属基带上制备隔离层，通过连续走带、阶梯加热、多通道重复化学溶液平整化方法制备非晶氧化物多层膜作为隔离层，厚度范围800‑1500纳米，表面平均粗糙度小于2纳米；(3)采用离子束辅助射频磁控溅射方法(IBAD‑MgO)在隔离层上制备双轴织构氧化镁层；(4)采用射频磁控溅射方法在双轴织构氧化镁层上制备锰酸镧层，采用多通道设备射频磁控溅射锰酸镧靶材，制备锰酸镧薄膜，氧气压力范围0.05‑10Pa，基带加热温度范围650‑750度；(5)采用直流磁控反应溅射方法在锰酸镧层上制备氧化铈层，采用多通道设备直流反应溅射制备氧化铈，氧气压力范围0.1‑20Pa，基带加热温度范围650‑750度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赵遵成，未经赵遵成许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410217749.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
