[发明专利]增强光刻工艺窗口的光学邻近修正方法

摘要

本发明提供一种增强光刻工艺窗口的光学邻近修正方法，包括步骤：A.提供待修正的原始图形；B.插入基于规则的散射条，作为原始散射条；C.选择出孤立的散射条并将其扩大，对该扩大规则进行精调；D.执行光学邻近修正；E.检查修正后的散射条是否在晶圆上显影出来，若否，进入步骤F；若是，则返回上述步骤C；F.输出经过光学邻近修正后的图形。本发明能够明显地改善光刻工艺窗口，改进光学邻近修正质量，使之具有更好的收敛性。另外还能够减少手动调试时间，加快OPC工艺菜单的开发。

主权项

1.一种增强光刻工艺窗口的光学邻近修正方法，包括步骤：A.提供待修正的原始图形；B.插入基于规则的散射条，作为原始散射条；C.选择出孤立的所述散射条并将其扩大，对该扩大规则进行精调；D.执行光学邻近修正；E.检查修正后的所述散射条是否在晶圆上显影出来，若否，进入步骤F；若是，则返回上述步骤C；以及F.输出经过光学邻近修正后的图形；其中，上述步骤C包括：检查所述散射条的每一条边缘，搜索孤立的所述散射条的待调整边缘；将所述待调整边缘向外扩展一数值c；其中，搜索孤立的所述散射条的待调整边缘的方式为：判断每一条所述边缘的宽度是否小于等于一数值a并且距离是否大于等于一数值b；若是，则确定所述边缘为待调整边缘。