[发明专利]离子体反应腔室电极间隙调整装置及离子体反应腔室有效
| 申请号： | 201410219012.3 | 申请日： | 2014-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103972014A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 杨义勇;赵康宁;程嘉;季林红 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学（北京） |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 张锦波;蔡纯 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电极间隙调整装置，所述电极位于等离子体反应腔室内，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，包括上电极升降装置，所述上电极升降装置包括上固定板、升降板、下固定板、导向支撑杆、螺杆和滑动杆，所述上固定板和下固定板相对平行设置，所述升降板平行的设置在所述上固定板和下固定板之间；所述导向支撑杆和所述螺杆垂直安装在所述上固定板和下固定板之间，并均匀分布在以所述上固定板的中心为圆心、以一定距离为半径的圆上；所述滑动杆设置在所述升降板和上电极之间。本发明的等离子体反应腔室电极间隙调整装置及等离子体反应腔室能够根据刻蚀工艺需求，精确控制电极间距，达到最佳的放电位置，可以更好的实现工艺的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 反应 电极 间隙 调整 装置 | ||
【主权项】：
一种电极间隙调整装置，所述电极位于等离子体反应腔室内，所述电极包括上电极和下电极，其特征在于，包括上电极升降装置，所述上电极升降装置包括上固定板、升降板、下固定板、导向支撑杆、螺杆和滑动杆，所述上固定板和下固定板相对平行设置，所述升降板平行的设置在所述上固定板和下固定板之间；所述导向支撑杆和所述螺杆垂直安装在所述上固定板和下固定板之间，并均匀分布在以所述上固定板的中心为圆心、以一定距离为半径的圆上；所述滑动杆设置在所述升降板和上电极之间。
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