[发明专利]降低关键尺寸的光学邻近修正的边缘定位误差的方法

摘要

本发明提供了一种降低关键尺寸的光学邻近修正的边缘定位误差的方法，包括：a.对掩模板图形进行光学模拟，所述掩模板图形中包含通孔；b.解析所述通孔的轮廓，其中所述轮廓包含多条边；c.计算出该轮廓的边缘定位误差；d.判断该轮廓的边缘定位误差是否达到预设的轮廓目标范围；e.如果该轮廓的边缘定位误差超出所述轮廓目标范围，则e1.检查所述轮廓的多条边中的每一条的优先级；e2.依照所述优先级的次序，对所述掩模板图形进行修正；e3.用经步骤e2修正的掩模板图形替换上述步骤a中的掩模板图形，再对该经步骤e2修正的掩模板图形重新执行该方法；以及f.如果该轮廓的边缘定位误差达到所述轮廓目标范围，则完成对掩模板图形的光学邻近修正。

主权项

1.一种降低关键尺寸的光学邻近修正的边缘定位误差的方法，包括：a.对掩模板图形进行光学模拟，以模拟所述掩模板图形经光刻后于硅片上所形成的图像，所述掩模板图形中包含通孔；b.解析所述通孔的轮廓，其中所述轮廓包含多条边；c.将解析出的通孔的轮廓同该通孔的目标图形进行比较，以计算出该轮廓的边缘定位误差；d.判断该轮廓的边缘定位误差是否达到预设的轮廓目标范围；e.如果该轮廓的边缘定位误差超出所述轮廓目标范围，则e1.检查所述轮廓的多条边中的每一条的优先级；e2.依照所述优先级的次序，对所述掩模板图形进行修正，其中该修改包括：先调整所述多条边中的具有高优先级的边以使该具有高优先级的边的边缘定位误差达到其目标范围，然后再调整具有低优先级的边，其中允许调整所述具有低优先级的边，以使该具有低优先级的边的边缘定位误差超出其目标范围；e3.用经步骤e2修正的掩模板图形替换上述步骤a中的掩模板图形，再对该经步骤e2修正的掩模板图形重新执行该方法；以及f.如果该轮廓的边缘定位误差达到所述轮廓目标范围，则完成对掩模板图形的光学邻近修正。