[发明专利]一种柔性自动植球装置及植球方法有效
申请号: | 201410222528.3 | 申请日: | 2014-05-26 |
公开(公告)号: | CN103972117A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 晁艳普;齐乐华;张元敏;殷志锋;白政民 | 申请(专利权)人: | 许昌学院 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 461000 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明提供了一种柔性自动植球装置及植球方法,种柔性自动焊球封装植球装置,包括焊丝输送管道、坩埚、气压控制阀、脉冲发生器、加热炉、运动平台、CCD摄像头和计算机控制系统,其特点还包括微型喷嘴、过滤片、本发明采用惰性气体(如氩气和氮气)作为微滴喷射的动力源,利用脉冲发生器产生的脉冲信号控制电磁气压阀的开启/关闭,使坩埚内部产生脉冲气压,并采用导气管将脉冲气压能量瞬间集中作用于喷嘴上方的自由液面,使其按照脉冲气压的频率每次产生单个微滴。完成焊球的自动植球及芯片的封装,并通过CCD图像检测系统,实现植球效果的实时检测与反馈。具有很高的市场应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 自动 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种柔性自动焊球封装植球装置,其特征在于,包括坩埚、加热炉、同轴供气腔、导气管、热电偶、过滤片、微型喷嘴、焊料输送管道、气压控制阀、脉冲发生器、温度控制器、运动平台、CCD摄像头、计算机控制系统、承载基板、方向标尺和夹紧定位块,其中,焊料输送管道位于坩埚上端,用于将焊丝输送到坩埚内熔化,保持坩埚内焊料熔液的液面高度,过滤片放置于坩埚内部,对焊料熔液进行过滤;坩埚和同轴供气腔通过各自的输气管和气压控制阀、与气体分流控制器相连,用于实现气体压力和流量的控制,电磁阀安装于坩埚上端中心位置, 其两端分别与气压控制阀和导气管连接,脉冲发生器与电磁阀相连,并通过输出的脉冲信号,控制电磁阀的开启/关闭,使坩埚内部产生脉冲气压,实现焊球微滴喷射;同轴供气腔安装于坩埚底部下方,微型喷嘴安装于坩埚底部,并保证其处于同轴供气腔的中心位置;环形加热炉放置于坩埚外侧,平板加热炉放置于承载基板的下方,热电偶、分别放置于坩埚和承载基板内部,热电偶、将采集到的温度信号传送到温度控制器,实现对坩埚和承载基板内部温度的反馈控制;BGA封装器件放置在承载基板上,依据方向标尺、调节定向滑块的位置,在弹簧压力和夹紧定位块的作用下实现封装器件的定位夹紧,承载基板安装在运动平台上,运动控制器依据计算机控制系统给出的焊点位置坐标,控制运动平台的运动,实现微滴精确沉积到设定的焊点位置;CCD摄像头通过图像采集卡与计算机控制系统相连,计算机控制系统将采集到的焊点图像显示到显示屏上,并与所存储的标准焊点图像进行对比分析,用于实现植球效果的测量与反馈。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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