[发明专利]一种羟胺还原剂无氰一价镀铜的电镀液及电镀方法在审

专利信息
申请号: 201410228678.5 申请日: 2014-05-27
公开(公告)号: CN105297087A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 王军 申请(专利权)人: 无锡韩光电器有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/18
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 赵红霞
地址: 214000 江苏省无锡市惠*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种羟胺还原剂无氰一价镀铜的电镀液及电镀方法。该电镀液包括10~25g/L的Cu2O、含量为76~128g/L的5,5-二甲基海因、含量为20~40g/L的羟胺化合物、含量为0.05~0.15g/L的氨基吡啶和含量为10~20g/L的葡萄糖酸盐。本发明的镀液以Cu2O为铜源,以羟胺化合物为一价铜离子的稳定剂,以5,5-二甲基海因为亚铜离子的配位剂,以氨基吡啶为光亮剂,以葡萄糖酸盐为导电盐,由此使得镀液具有较好的分散力和深镀能力,阴极电流效率高,镀液性能优异。采用在镀液在碱性条件下电镀获得的镀层的孔隙率低,采用该镀液获得的镀层质量良好。
搜索关键词: 一种 还原剂 无氰一价 镀铜 电镀 方法
【主权项】:
一种羟胺还原剂无氰一价镀铜的电镀液,其特征在于,包括含量为10~25g/L的Cu2O、含量为76~128g/L的5,5‑二甲基海因、含量为20~40g/L的羟胺化合物、含量为0.05~0.15g/L的氨基吡啶和含量为10~20g/L的葡萄糖酸盐。
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