[发明专利]一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201410231799.5 | 申请日： | 2014-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN104018128A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 王传军;唐志龙;张俊敏;闻明;毕珺;沈月;宋修庆;管伟明 | 申请（专利权）人： | 贵研铂业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C22C19/03;C22F1/10 |
| 代理公司： | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人： | 赛晓刚 |
| 地址： | 650106 云南省昆明市高新*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法，所述镍铂合金溅射靶中，铂的含量为0～5原子％，靶材的平均晶粒尺寸小于80微米且单个晶粒尺寸不大于150微米，靶材具有均匀分布的衍射峰强度组合，且单个方向上的衍射峰强度不大于50％，靶材的透磁率(PTF)在大于40％且在各个不同方向上测量的数值差别在5％以内。所述的镍铂合金溅射靶材，能减少溅蚀现象发生，具有较长的使用寿命，使用该靶材所制备出的薄膜具有较好的均匀性；本发明的另一个目的在于提供一种获得上述具有高透磁率(PTF)的具有低铂含量的镍铂合金靶材的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 合金 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镍铂合金溅射靶，其特征在于：所述镍铂溅射靶中，铂的含量为0～5原子百分比，靶材的平均晶粒尺寸小于80微米，且单个晶粒尺寸不大于150微米。
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