[发明专利]一种阵列基板的制备方法

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，涉及显示技术的制备领域，可减少制备具有刻蚀阻挡层的阵列基板的构图工艺次数，提高生产效率，降低成本。该方法包括在衬底基板上通过第一次构图工艺形成包括栅极、栅线、公共电极线的图案层；通过第二次构图工艺形成栅绝缘层、有源层薄膜、以及刻蚀阻挡层；其中，刻蚀阻挡层与待形成的源极和漏极之间的间隙对应；在公共电极线上方形成露出公共电极线的过孔；通过第三次构图工艺至少形成有源层、包括源极、漏极、数据线的图案层、以及保护层；其中，保护层露出漏极的一部分；通过第四次构图工艺至少形成像素电极；其中，像素电极与漏极电连接。用于阵列基板的制备。

主权项

一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括，在衬底基板上通过第一次构图工艺形成包括栅极、栅线、公共电极线的图案层；在形成有包括所述栅极、所述栅线、所述公共电极线的图案层的基板上，通过第二次构图工艺形成栅绝缘层、有源层薄膜、以及刻蚀阻挡层；其中，所述刻蚀阻挡层与待形成的源极和漏极之间的间隙对应；在所述公共电极线上方形成露出所述公共电极线的过孔；在形成有包括所述栅绝缘层、所述有源层薄膜、以及所述刻蚀阻挡层的基板上，通过第三次构图工艺至少形成有源层、包括源极、漏极、数据线的图案层、以及保护层；其中，所述保护层露出所述漏极的一部分；在形成有至少包括所述有源层、包括所述源极、所述漏极、所述数据线的图案层、以及所述保护层的基板上，通过第四次构图工艺至少形成像素电极；其中，所述像素电极与所述漏极电连接。