[发明专利]用于EUV光刻设备的真空框架及密封方法有效
| 申请号： | 201410238163.3 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105223779B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 戴乐薇;高原;吴飞 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于EUV光刻设备的真空框架，其特征在于，包括一主基板，该主基板将该真空框架的内部空间分割成一主真空腔和一工件台真空腔，该主真空腔内包括该EUV光刻设备的物镜和掩模台，该工件台真空腔内包括该EUV光刻设备的工件台和测量系统。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 光刻 设备 真空 框架 密封 方法 | ||
【主权项】：
一种用于EUV光刻设备的真空框架，其特征在于，包括：一主基板，所述主基板将该真空框架的内部空间分割成一主真空腔和一工件台真空腔，所述主基板通过一主动减振器与所述真空框架的基础框架连接，所述主基板与所述基础框架之间的间隙小于3‑5mm，所述主基板通过一楔形调节单元调整所述主基板与所述基础框架之间的间隙；所述楔形调节单元包括与所述基础框架连接的固定底板和导向块，所述导向块与楔形块连接，所述固定底板上包括调节螺栓，所述调节螺栓用于使该楔形块沿该导向块上下移动；所述主真空腔内包括所述EUV光刻设备的物镜和掩模台，所述工件台真空腔内包括所述EUV光刻设备的工件台和测量系统。
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