[发明专利]用于制造半导体部件的方法有效
申请号: | 201410239980.0 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN104217936B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | A·梅瑟;M·聪德尔 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L21/768 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 德国诺伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于制造半导体部件的方法,该半导体部件包括具有单元结构的晶体管,该单元结构具有单片集成在半导体本体中并且并联地电连接的多个晶体管单元。在示例方法中,制造第一沟槽,第一沟槽从顶侧延伸至半导体本体中;同样地制造第二沟槽,每个第二沟槽从顶侧比每个第一沟槽更深地延伸至半导体本体中。在每个第一沟槽的表面上制造第一电介质,第一电介质邻接于半导体本体的第一部分上。并且在每个第二沟槽的表面上制造第二电介质。在每个第一沟槽中,制造栅极电极,之后通过去除半导体本体的底层使半导体本体的第二部分与半导体本体的第一部分电绝缘。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 半导体 部件 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制造半导体部件的方法,所述半导体部件包括具有单元结构的晶体管,所述单元结构具有单片集成在半导体本体中并且并联地电连接的多个晶体管单元,所述方法包括:提供具有顶侧以及与所述顶侧相对的底侧的半导体本体;制造多个第一沟槽,所述第一沟槽从所述顶侧延伸至所述半导体本体中;制造多个第二沟槽,每个所述第二沟槽从所述顶侧比每个所述第一沟槽更深地延伸至所述半导体本体中;在每个所述第一沟槽的表面上制造第一沟槽隔离层,所述第一沟槽隔离层邻接于所述半导体本体的第一部分上;在每个所述第二沟槽的表面上制造第二沟槽隔离层;在每个所述第一沟槽中制造栅极电极;以及在制造所述栅极电极之后,通过去除所述半导体本体的底层使所述半导体本体的第二部分与所述半导体本体的所述第一部分电绝缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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