[发明专利]NbN-Ag硬质薄膜及制备方法在审
| 申请号： | 201410245844.2 | 申请日： | 2014-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN104032269A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 许俊华;喻利花;胡红霞 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/16;C23C14/18;C04B41/88 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212003 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及NbN-Ag硬质薄膜及其制备方法，其特征在于硬质薄膜分子式为NbN-Ag，厚度为1～5μm，Ag含量为0～50at.％且大于0；是以高纯Nb靶和Ag靶为靶材，利用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基体上沉积得到，沉积时，真空度<3.0×10-3Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积；溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:(1～10)；Nb靶溅射功率100～500W，Ag靶溅射功率0～150W。本发明具有高的生产效率，所得薄膜具有高硬度和优异的摩擦磨损性能，可作为高速、干式切削的结构硬质薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | nbn ag 硬质 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
NbN‑Ag硬质薄膜，其特征在于是以高纯Nb靶和Ag靶为靶材，采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上得到的，薄膜分子式为NbN‑Ag，厚度为1～5μm，Ag含量为0～50at.％且大于0，NbN‑Ag薄膜的摩擦系数在25℃‑700℃范围随着温度升高而降低。
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