[发明专利]一种利用微滴喷射技术制作微纳光栅的方法有效
| 申请号： | 201410248114.8 | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN104035152A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 胡志宇;曾超;田遵义 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 陆聪明 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用微滴喷射技术制作微纳光栅的方法，步骤包括微纳光栅器件材料的悬浮液的制备，基底的处理和利用微滴喷射仪喷打制作微纳光栅。本发明结合微滴喷射技术制作微纳光栅，相比较其他方式，该方法制作周期小且操作十分方便，可重复性好，成本低廉，应用前景广阔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 喷射 技术 制作 光栅 方法 | ||
【主权项】：
一种利用微滴喷射技术制作微纳光栅的方法，其特征在于，包括以下的步骤：1）微纳光栅器件材料的悬浮液的制备：首先选择透光性差的材料，对其进行充分研磨，取1~2g得到的纳米粉末溶入50~150ml的溶剂中，然后添加分散剂，再对溶液进行超声和离心处理，取超声、离心处理后悬浮液的上清液，得到均匀混合的掺杂溶液；向掺杂溶液中加入去离子水调整溶液的粘度，去离子水与溶剂的体积比为1:1.5~1:3，得到用于微滴喷射仪喷打的悬浮液；2）选择合适的基底，并通过腐蚀或生长种子层法对其进行预处理；3）利用微滴喷射仪喷打：根据步骤1）所配制的悬浮液的表面张力、粘度、pH值特性，调整微滴喷射仪的喷打电压、频率、点间距参数，在基底上进行微滴喷射或喷墨打印，制作微纳光栅。
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