[发明专利]图案形成装置以及图案形成方法在审
| 申请号： | 201410250180.9 | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN104299927A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 中川良幸 | 申请（专利权）人： | 大日本网屏制造株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋晓宝;向勇 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够在基板上以良好的形状形成线图案的图案形成装置以及图案形成方法。该图案形状装置具有气流吹送单元(1C)和图案整形单元中的至少一个，其中，所述气流吹送单元(1C)与开始喷出所述涂敷液以及停止喷出所述涂敷液相对应地朝向所述基板(W)的在第一方向(X)上比向所述基板(W)供给所述涂敷液的供给位置(P1)更靠上游侧的表面喷射气体，并在所述涂敷液喷嘴(2)的喷出口(21)和所述基板(W)的表面的中间，向所述涂敷液的液流吹送气流(AF)；所述图案整形单元向形成在所述基板(W)的表面上的图案(LP)呈脉冲状喷射气体来进行整形。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种图案形成装置，通过从涂敷液喷嘴的喷出口向相对于所述涂敷液喷嘴向第一方向移动的基板的表面喷出的线状的涂敷液，在所述基板的表面上形成图案，其特征在于，该图案形成装置具有气流吹送单元和图案整形单元中的至少一个，其中，所述气流吹送单元与开始喷出所述涂敷液以及停止喷出所述涂敷液中的至少一个相对应地，朝向所述基板的在所述第一方向上比向所述基板供给所述涂敷液的供给位置更靠上游侧的表面喷射气体，并在所述涂敷液喷嘴的喷出口和所述基板的表面的中间，向所述涂敷液的液流吹送气流；所述图案整形单元向形成在所述基板的表面上的图案呈脉冲状喷射气体来进行整形，通过所述气体来控制所述图案的形状。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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