[发明专利]干燥装置和干燥处理方法有效

专利信息
申请号: 201410251369.X 申请日: 2014-06-06
公开(公告)号: CN104228329B 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 及川纯史;今田雄;户原淳志;大岛澄美;岛村明典;林辉幸 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: B41F23/00 分类号: B41F23/00;B41M7/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的干燥装置和干燥处理方法在短时间内高效率地去除在对基板上的有机材料膜进行干燥的干燥装置的处理容器内残留的溶剂。干燥装置(100)具备能够进行抽真空的处理容器(1)、在处理容器(1)内支承基板(S)的作为支承构件的载置台(3)、向处理容器(1)的内部照射紫外线的紫外线照射装置(5)以及控制部(6)。紫外线照射装置(5)作为溶剂分解单元而发挥功能,其在从处理容器(1)搬出已完成干燥处理的基板(S)之后,将残留在处理容器(1)内的溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。
搜索关键词: 干燥 装置 处理 方法
【主权项】:
一种干燥装置,去除在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂后进行干燥,其特征在于,具备:能够进行抽真空的处理容器;支承构件,其在上述处理容器内支承上述基板;以及溶剂分解单元,在从上述处理容器搬出已完成干燥处理的上述基板之后,该溶剂分解单元将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410251369.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top