[发明专利]一种半导体制冷器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410255535.3 申请日: 2014-06-10
公开(公告)号: CN104009149A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 时平;张华;胡彦亮;郭峰;陈粤海;马良 申请(专利权)人: 四川航天系统工程研究所
主分类号: H01L35/02 分类号: H01L35/02;H01L35/34
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 伍孝慈
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种半导体制冷器件及其制造方法,包括半导体制冷片,所述半导体制冷片由上基板和下基板,以及位于上基板和下基板之间的多组P-N结半导体组成,所述上基板与下基板的空隙处填充有具有隔热绝缘作用的气凝胶层。与现有半导体制冷器件相比,本发明采用新型二氧化硅气凝胶材料,具有质量轻、不额外占用体积、抗过载能力强、稳定性高的优点;其单位功耗下的制冷效率提高10%以上,特别适用于在功率较低,而制冷要求较苛刻下的制冷设备;只增加一道灌装工序,原有生产工艺可保持不变,无需重新设计生产装备,改进成本低。
搜索关键词: 一种 半导体 制冷 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体制冷器件,包括半导体制冷片,其特征在于:所述半导体制冷片由上基板和下基板,以及位于上基板和下基板之间的多组P‑N结半导体组成,所述上基板与下基板的空隙处填充有具有隔热绝缘作用的气凝胶层。
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