[发明专利]一种光学掩膜及基于光学掩膜的太阳敏感器有效
| 申请号： | 201410256172.5 | 申请日： | 2014-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN103983265B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 樊巧云;高鑫洋;张广军 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01C21/02 | 分类号： | G01C21/02;G01C25/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 张颖玲;王黎延 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学掩膜，该光学掩膜采用由两条平行线及两条圆弧线构成的圆矩形结构，所述圆矩形结构沿x轴方向及y轴方向均对称，且带有V字形狭缝；该光学掩膜用于通过所述V字形狭缝的两条缝分别滤波并引入第一条太阳光线及第二条太阳光线到线阵图像传感器。如此，本发明实施例中的光学掩膜采用圆矩形的结构形式，易于加工和装配且可以避免旋转移位；采用V字形狭缝滤波并引入太阳光线，形成的光线交点数量较少，在后续测量姿态角的过程中对应的信息处理算法较为简单、快速且精确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 基于 太阳 敏感 | ||
【主权项】：
1.一种光学掩膜，应用于太阳敏感器，其特征在于，所述光学掩膜采用由两条平行线及两条圆弧线构成的圆矩形封闭结构，所述圆矩形封闭结构沿x轴方向及y轴方向均对称，且带有V字形狭缝，所述V字形狭缝的中心与所述圆矩形封闭结构的中心重合；所述光学掩膜，用于通过所述V字形狭缝的两条狭缝分别滤波并引入第一条太阳光线及第二条太阳光线到线阵图像传感器。
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