[发明专利]一种近场波束聚焦的毫米波双反射面天线有效
| 申请号： | 201410257253.7 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN104103911B | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 薛长江;余川;孟凡宝;屈劲;徐刚;施美友;陈世韬 | 申请（专利权）人： | 中久安特装备有限公司 |
| 主分类号： | H01Q19/19 | 分类号： | H01Q19/19;H01Q15/16 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 | 代理人： | 卿诚,吴彦峰 |
| 地址： | 610000 四川省成都市天府新区天府大道*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种近场波束聚焦的毫米波双反射面天线，包括主反射面、副反射面和馈源，述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后再射出；主反射面的曲面形状为旋转抛物面，主反射面的中心点位于副面出射中心轴线和辐射波束轴线交点处。本发明结构简单、加工成熟，提高了天线近场区轴线功率密度，在同样输入功率情况下，轴线最大功率密度得到大幅提高；达到有效功率阈值的距离范围增大；提高了天线效率、增大了天线近场增益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 近场 波束 聚焦 毫米波 反射 天线 | ||
【主权项】：
一种近场波束聚焦的毫米波双反射面天线，包括主反射面、副反射面和馈源，所述馈源发射出的波束经副反射面反射到主反射面后再射出；其特征为所述主反射面的曲面形状为旋转抛物面，主反射面的中心点位于副反射面出射中心轴线和辐射波束轴线交点处；所述副反射面曲面为旋转双曲面，且副反射面为圆对称结构，圆心位于所述馈源出射轴线上；所述馈源设置在副反射面的一个实焦点上；所述主反射面的焦点与天线副反射面双曲面的另一实焦点重合；所述馈源轴线与主反射面辐射波束轴线成任意度夹角；主反射面的赋形结构对输入的毫米波束有不同的光程长度，该长度差造成了照射到主反射面的同相位波束经过主反射面反射后在天线口面上形成内凹的相位分布；天线口面幅度和相位分布在天线近场区形成聚焦束斑，在聚焦束斑区域内轴线功率密度提高，达到有效功率阈值的距离范围增大。
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