[发明专利]用于制备具有高转变温度的超导层的技术基材的涂布有效

专利信息
申请号: 201410258069.4 申请日: 2014-06-11
公开(公告)号: CN104240843B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 沃纳·普路塞特 申请(专利权)人: 泽瓦薄膜技术股份有限公司
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B12/06
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司11258 代理人: 肖善强
地址: 德国伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于制备具有高转变温度的超导层的技术基材的涂布。更具体地,本发明涉及一种用于在随后用于制造高温超导体带的带基材上涂覆平滑化层的方法,其中该方法包括下列步骤(a)将含聚硅氮烷的液体涂覆在带基材的至少一侧;并且(b)将含聚硅氮烷的液体加热到≥450℃的某一温度下,用于在带基材上沉积含有氮氧化硅(SiNxOy,其中0≤x<0.6且1.0<y≤2.0)和/或硅‑碳‑氮氧化物(SiCxNyOz,其中2·y<x≤1.0,0<y<0.2且1.0<z≤2.0)的层。
搜索关键词: 用于 制备 具有 转变 温度 超导 技术 基材
【主权项】:
一种用于在随后用于制造高温超导体带的带基材上涂覆平滑化层的方法,所述方法包括下列步骤:a.将含聚硅氮烷的液体涂覆在带基材的至少一侧,其中所述带基材包含以金属带形式的技术基材;并且b.将所述含聚硅氮烷的液体加热到≥450℃的温度,用于在带基材上沉积含有氮氧化硅(SiNxOy,其中0≤x<0.6且1.0<y≤2.0)和/或硅‑碳‑氮氧化物(SiCxNyOz,其中2·y<x≤1.0,0<y<0.2且1.0<z≤2.0)的层,其中所述基材上的沉积层的粘合强度>10N·mm‑2;并且c.在步骤b中所沉积的层上沉积双轴织构的外延支撑物。
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