[发明专利]干膜抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的干膜抗蚀剂的除去方法在审
| 申请号： | 201410259171.6 | 申请日： | 2014-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN104281017A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 曹恩仁;吴龙洙;李秀兴;孙命赞;池营植;李胎坤;李庚相;郑世桓;金柄郁;尹锡壹;郑宗铉;许舜范;黄钟源 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社;株式会社东进世美肯 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 李婉婉;金迪 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种干膜抗蚀剂剥离剂组合物以及使用该组合物的干膜抗蚀剂的除去方法。本发明的干膜抗蚀剂剥离剂组合物以规定的混合比含有氢氧系化合物、链胺化合物、三唑化合物以及纯水(H2O)，能够完全除去干膜抗蚀剂，同时能够防止金属层的腐蚀，且具有剥离剂可再使用的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 干膜抗蚀剂 剥离 组合 以及 使用 除去 方法 | ||
【主权项】：
一种干膜抗蚀剂剥离剂组合物，其特征在于，该组合物含有氢氧系化合物、链胺化合物、三唑化合物以及纯水(H2O)。
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