[发明专利]基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法

摘要

本发明公开了基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理10分钟；用氧等离子清洗机清洗7分钟，使得ITO基板表面清洗干净；把ITO基板移至手套箱中；将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合；把ITO基板和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室内的基片架上；将真空腔室中的氮气气体抽出，用功率为600w的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到20Å/S时，打开挡板；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板上。本发明电极上电阻分布均匀，压降均匀，使得ITO面板生热均匀，没有使用胶体等有机物，避免了电极的老化现象。

主权项

基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理8‑12分钟；其中丙酮溶液的浓度为99%‑99.5%；（2）然后用氧等离子清洗机清洗5‑10分钟，使得ITO基板表面清洗干净；（3）再把ITO基板移至手套箱中，在手套箱中将ITO基板和掩膜板固定；手套箱参数为：氧含量<0.1ppm，水含量<0.01ppm）；（4）在手套箱中将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合，掩膜板的作用是制备电极部分，在蒸镀时，金属只蒸镀到ITO基板的电极部分；（5）把ITO基板和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室内的基片架上，真空蒸镀系统包括有真空腔室，真空腔室的一侧开孔并密封连接冷凝泵，冷凝泵通过冷凝管连接机械泵，真空腔室内下端设有蒸发源、上端一侧设有膜厚仪，真空腔室中还设有旋转杆一，旋转杆一的顶部固定有挡板，挡板的一侧固定在旋转杆一上，挡板的上方设有基片架；基片架固定在其上方的旋转杆二上，蒸发源与电源连接；（6）将真空腔室中的氮气气体抽出，当腔室内的真空度达到<10‑7Torr时开始蒸镀，用功率为600w的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到20Å/S时，通过旋转杆一的转动打开挡板；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板上；工作时ITO基板是通过基片架连接的旋转杆二不停的旋转，转速为20转/分钟。